- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀應用領域：
緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀設計主要是制作一些金屬薄膜，制膜面積可達到4英寸。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：
產(chǎn)品名稱
桌面型單靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號
CY-MSZ180-I-DC-Q
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC
220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
直流電源一套
輸出功率
≦150W
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
2kW
整機尺寸
550mm
X 350mm X400mm
免責聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。
